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鉴于氧化钒是应用于锂充电电池的最有希望的电极材料之一，采用等离子体增强化学气相沉积法（ＰＥＣＶＤ）和激光溅射沉积法（ＰＬＤ），制备了不同的氧化钒薄膜，并研究了它们的电化学性质。这些薄膜具备较高的充放电容量和优良的充放电稳定性。晶体和非晶体的Ｖ２Ｏ５薄膜都可以用ＰＬＤ方法在２００℃和不同的气氛下制备。这些薄膜的充电容量可达３８０ｍＡ·ｈ／ｇ。所制备的最稳定的薄膜是用ＰＥＣＶＤ方法得到的。这些薄膜的Ｏ／Ｖ比很接近Ｖ６Ｏ１３（厚度约为０．５ｕｍ）。它们的放电容量可达４０８ｍＡ．ｈ／ｇ或１２６５ｍＡｈ／