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鉴于氧化钒是应用于锂充电电池的最有希望的电极材料之一,采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)和激光溅射沉积法(PLD),制备了不同的氧化钒薄膜,并研究了它们的电化学性质。这些薄膜具备较高的充放电容量和优良的充放电稳定性。晶体和非晶体的V2O5薄膜都可以用PLD方法在200℃和不同的气氛下制备。这些薄膜的充电容量可达380mA·h/g。所制备的最稳定的薄膜是用PECVD方法得到的。这些薄膜的O/V比很接近V6O13(厚度约为0.5um)。它们的放电容量可达408mA.h/g或1265mAh/