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简单介绍了ICP(inductivelycoupledplasma)刻蚀设备的结构和刻蚀机理,报道了ICP刻蚀硅、二氧化硅和Ⅲ-Ⅴ族材料的一些最新进展,重点介绍ICP刻蚀技术在光电子器件制作方面的进展和应用前景。
ICP刻蚀技术及其在光电子器件制作中的应用
【摘 要】
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简单介绍了ICP(inductivelycoupledplasma)刻蚀设备的结构和刻蚀机理,报道了ICP刻蚀硅、二氧化硅和Ⅲ-Ⅴ族材料的一些最新进展,重点介绍ICP刻蚀技术在光电子器件制作方面的进
【机 构】
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中国科学院半导体研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2003年02期
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