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在不同的Ar和O2气流量比下,利用射频磁控溅射技术在载波片上制备了TiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),拉曼光谱和UV-VIS-NIR分光光度计等技术对薄膜进行了表征.结果表明在Ar∶O2=20 sccm∶5 sccm下制备的薄膜具有较高的光催化活性.
射频磁控溅射制备TiO2光催化薄膜的表征
【摘 要】
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在不同的Ar和O2气流量比下,利用射频磁控溅射技术在载波片上制备了TiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),拉曼光谱和UV-VIS-NIR分光光度计等技术对薄膜进行了表征.
【机 构】
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北京航空航天大学,北京,100083Beijing University of Aeronautics and Astronautics,Beijing,100083,China;
【出 处】
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稀有金属材料与工程
【发表日期】
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2004年7期
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