Atomic layer deposited high-k Hf_xAl_(1-x)O as an alternative gate dielectric for 4H-SiC MIS based t

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HfxAl(1-x)O film grown by atomic layer deposition(ALD) on n-type 4H-SiC(0001) epitaxial layer has been studied.Measurements show that it has relatively high breakdown electric field of 16.4 MV/cm,high dielectric constant of 16.3 and low gate leakage current of 2.47×10-5 A/cm2 at E=5 MV/cm,which makes ALD HfxAl(1-x)O a great potential candidate gate dielectric for 4H-SiC MIS based transistors. HfxAl (1-x) O film grown by atomic layer deposition (ALD) on n-type 4H-SiC (0001) epitaxial layer has been studied. Measures show that it has relatively high breakdown electric field of 16.4 MV / cm, high dielectric constant of 16.3 and low gate leakage current of 2.47 × 10 -5 A / cm 2 at E = 5 MV / cm, which makes ALD HfxAl (1-x) O a great potential candidate gate dielectric for 4H-SiC MIS based transistors.
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