聚变点火、同步辐射、光刻机、深空探测、侦察预警等高端装备要实现一系列前所未有的极端性能，并朝着多样化和复杂化的方向发展。强光元件、同步辐射反射镜、掩膜版和光刻物镜、深空探测X射线反射镜等关键光学元件是这些系统实现聚焦、极高能量输出、极高峰值功率、极端尺寸光束聚焦和纳米尺度精确图案转印等极端性能的关键。要实现这些高端装备的极端性能，对核心关键元件的光学制造提出了高精度、低损伤、低应力、洁净制造和功构一体等要求，要求实现的是多物理参数约束下的高性能。元件的性能不仅由设计约束，更受到制造水平的制约，传统的以提升精度为目标的光学制造方法面临挑战，亟待实现从高精度制造到高性能制造的跃升。高性能光学制造是指面向极端性能高端制造装备发展对材料/结构特殊、高功率/高能辐照、低缺陷和洁净制造等关键光学元件的制造需求，以服役性能精准调控为目标，通过高性能光学制造装备、工具、检测和工艺等方面的技术创新，制造特殊材料/结构或者极高功能的元件，可作业于极端性能服役环境的制造。将近年来国内外围绕光学元件和超精密零件高性能光学制造的工作进行初步凝练，总结高性能光学制造典型元件的特点、光学制造要求和光学制造技术，尝试阐明高性能光学制造的内涵，介绍高性能光学制造的关键技术和发展趋势，并给出了高性能光学制造的应用实例。