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以掺氧化钇的钡钨阴极作为研究对象,利用现代表面分析技术,包括发射式电子显徽镜、扫描电子显微镜、俄歇电子谱仪和高分辨率x射线光电子谱仪等,进行了综合研究,获得了阴极发射性能、表面形貌和表面化学等实验结果,并对实验结果进行了讨论。
掺氧化钇钡钨阴极的表面特性研究
【摘 要】
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以掺氧化钇的钡钨阴极作为研究对象,利用现代表面分析技术,包括发射式电子显徽镜、扫描电子显微镜、俄歇电子谱仪和高分辨率x射线光电子谱仪等,进行了综合研究,获得了阴极发
【机 构】
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中国科学院电子学研究所,中国科学院电子学研究所北京,北京
【出 处】
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电子科学学刊
【发表日期】
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1990年6期
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