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Veprek等[1]报道了采用气相沉积方法获得硬度高达80~105GPa的Ti-Si-N薄膜,令人惊讶!尽管尚无人从实验上重复出这一结果,但大量研究[2]表明,在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si,形成以Si3N4界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途径.