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本文用射频反应磁控溅射制备了ＳｉＣＮ薄膜，对薄膜的化学成分、结构进行了研究。结果表明，反应气体Ｎ２、Ｓｉ、Ｃ三者之间形成了Ｓｉ－Ｃ，Ｓｉ－Ｎ和Ｃ－Ｎ键，构成了复杂的网络结构。成分分析表明薄膜的化学计量式近似为ＳｉＣＮ。对比分析了反应应溅射制备ＳｉＣＮ、ＣＮｘ、ＳｉＮｙ、ＳｉＣｘ薄膜的ＦＴＩＲ谱。