【摘 要】
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利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了耐磨CrTiAlN镀层，分析了溅射偏压对该镀层的形貌、相结构以及磨损性能的影响。研究表明：偏压对镀层的形貌、相结构以及与摩擦学性能
【机 构】
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西安交通大学材料学院,西安理工大学材料学院
【基金项目】
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国家863计划（2005AA33H010）
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利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了耐磨CrTiAlN镀层，分析了溅射偏压对该镀层的形貌、相结构以及磨损性能的影响。研究表明：偏压对镀层的形貌、相结构以及与摩擦学性能有关的摩擦系数、硬度、结合力以及磨损率等参数都有影响。在制备CrTiAlN镀层的过程中，当偏压为-75V时镀层的耐磨损性最好，当偏压在-65V--85V变化时，镀层形貌的变化对镀层的磨损性能无明显影响，CrTiAlN镀层相结构的变化是影响磨损性能的主要原因。
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