【摘 要】
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采用直流磁控溅射在不同沉积时间条件下制备钼薄膜,并用电子束热负荷装置对薄膜进行热疲劳性能试验,利用X射线衍射仪（XRD）对其结构和残余应力状态进行测试分析,用扫描电镜（SEM）对
【机 构】
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北京工业大学薄膜材料与技术研究室,航天科工防御技术研究试验中心三室,北京有色金属研究总院稀土材料国家工程研究中心
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采用直流磁控溅射在不同沉积时间条件下制备钼薄膜,并用电子束热负荷装置对薄膜进行热疲劳性能试验,利用X射线衍射仪（XRD）对其结构和残余应力状态进行测试分析,用扫描电镜（SEM）对钼薄膜热疲劳前后形貌进行表征。结果表明：薄膜沿（110）取向择优生长,呈柱状晶结构,薄膜内存在张应力,残余应力随沉积时间增加而逐渐减小。热循环试验后均未出现薄膜脱落现象,但均产生表面裂纹。随着沉积时间由4h增加至8h,疲劳裂纹由穿晶断裂的直线裂纹转变为沿晶开裂的曲折裂纹,同时成膜过程中的退火效应使薄膜的晶粒长大、晶粒结构更加趋于完
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