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以ZnO为靶材，采用射频磁控溅射法，在衬底温度为450℃、混合气体压强为1.3Pa的条件下，在石英玻璃和抛光单晶硅衬底上沉积了一系列呈六角纤锌矿结构、沿（0002）晶面高度取向生长的ZnO薄膜。利用X射线衍射、四探针、原子力显微镜、吸收光谱和光致荧光光谱等实验分别对薄膜样品的晶体结构、表面形貌和光电特性进行了分析表征。结果表明，氮对ZnO薄膜的缺陷有明显的钝化作用，气体组分、溅射功率是影响ZnO薄膜沿C轴择优取向生长、结构特征和光电性质的重要因素。