【摘 要】
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采用无催化剂高温反应热蒸发和磁控溅射相结合的方法,在碳布上生长了W@WO3纳米结构薄膜.通过XRD、SEM、XPS测试表明样品结构具有很好的结晶性,且W颗粒吸附在WO3纳米薄膜上构
【机 构】
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嘉应学院物理与电子工程学院,广东梅州514015
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采用无催化剂高温反应热蒸发和磁控溅射相结合的方法,在碳布上生长了W@WO3纳米结构薄膜.通过XRD、SEM、XPS测试表明样品结构具有很好的结晶性,且W颗粒吸附在WO3纳米薄膜上构成了欧姆结,可用于提高半导体材料的电荷分离效率.通过将样品放入罗丹明B溶液进行可见光照射5h,76 ％的RB可被降解,与降解效率为26％的WO3纳米结构相比,经过W修饰后的样品光催化性能可得到大幅提升.实验利用碳布作为衬底生长出大比表面积纳米薄膜,可为了提供更多的光催化反应的活性位点.实验无需采用价格昂贵的贵金属修饰,也无需采用催化剂,可为低成本简易制备高质量的光催化材料提供有效制备方法,在污水等有机物的处理降解领域具有广阔的应用前景.
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