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用横向光热偏转技术研究光学薄膜的吸收损耗.结果表明:对ZrO2、MgF2、ZnS等单层膜,薄膜-基底界面吸收、空气-薄膜界面吸收以及薄膜体内吸收三者处于同一量级,而对TiO2、Ta2O5、SiO2等样品,薄膜-基底界面吸收远大于空气-薄膜界面吸收及薄膜体内吸收,是吸收损耗的主要来源.
光学薄膜吸收损耗的研究
【摘 要】
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用横向光热偏转技术研究光学薄膜的吸收损耗.结果表明:对ZrO2、MgF2、ZnS等单层膜,薄膜-基底界面吸收、空气-薄膜界面吸收以及薄膜体内吸收三者处于同一量级,而对TiO2、Ta2O5、SiO2等样品,薄膜-基底界面吸收远大于空气-薄膜界面吸收及薄膜体内吸收,是吸收损耗的主要来源.
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所浙江大学光仪系
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1989年9期
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