【摘 要】
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用气相色谱法测定了超纯氢中痕量杂质O_2+Ar、N_2、CO、CH_4和CO_2。将TCD和FID与预浓缩技术结合,当浓缩样品量为10升时,检测灵敏度分别达到O_2+Ar为0.2ppbV、N_2为0.4ppbV、
【机 构】
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中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所,
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用气相色谱法测定了超纯氢中痕量杂质O_2+Ar、N_2、CO、CH_4和CO_2。将TCD和FID与预浓缩技术结合,当浓缩样品量为10升时,检测灵敏度分别达到O_2+Ar为0.2ppbV、N_2为0.4ppbV、CO为0.05ppbV、CH_4为0.2ppbV和CO_2为0.3ppbV。提出用浓缩体积差值法和按峰面积法两种方法计算样品中杂质浓度,前一种方法可消除载气中杂质浓度的影响。
Determination of Trace O_2 + Ar, N_2, CO, CH_4 and CO_2 in Ultrapure Hydrogen by Gas Chromatography. When TCD and FID were combined with preconcentration, the detection sensitivity reached 0.2ppbV for O_2 + Ar, 0.4ppbV for N_2, 0.05ppbV for CO, 0.2ppbV for CH_4 and 0.3ppbV for CO_2 when the sample volume was 10L. It is proposed to calculate the impurity concentration in the sample by the two methods of concentrated volume difference method and peak area method. The former method can eliminate the influence of the impurity concentration in the carrier gas.
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