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以MEMS滤波器中的MEMS开关牺牲层的工艺为例,通过同时运用聚酰亚胺和正胶作为牺牲层材料的方法,避免了牺牲层单独使用聚酰亚胺做材料难于去除,或单独使用光刻胶做材料,叠层旋涂光刻胶时会出现龟裂的缺点。改善了牺牲层固化和刻蚀的效果,减小了刻蚀的时间。此研究应用在表面微细加工工艺中,对MEMS加工工艺具有一定的参考价值。