论文部分内容阅读
以不同晶面的Si片作为基底，室温下，采用射频磁控溅射的方法制备得到Ru非磁性薄膜。利用x射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（sEM）和原子力显微镜（AFM）分析薄膜的结构和形貌。研究不同基底材料对Ru中间层结构和形貌的影响。结果表明：以单晶Si（100）、Si（110）、Si（111）片作为基底制备的Ru薄膜均呈（002）晶面的择优取向生长；Ru—Si（100）、Ru—Si（110）和Ru—Si（111）薄膜表面均由细小的圆形晶粒组成。Si（111）面上生长的Ru薄膜表面颗粒尺寸最小，表面粗糙度最大，有