【摘 要】
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采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1-1.0Pa下制备了金属Mo膜。用扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射（XRD）研
【机 构】
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北京低碳清洁能源研究所,北京市纳米结构薄膜太阳能电池工程技术研究中心
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采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1-1.0Pa下制备了金属Mo膜。用扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射（XRD）研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌。结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32-4.81nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2-11.7nm之间;溅射气压为0.2Pa和0.3Pa时制备的Mo膜
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