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本文介绍了深亚微米工艺用二次超纯水系统主要工艺流程及其各部分的作用.比较了一次纯水电阻率,二次纯水电阻率及二次纯水TOC含量的相互关系.讨论了半导体集成电路制造工艺对超纯水的水质要求以及水中杂质对半导体工艺的影响.
深亚微米工艺用二次纯水系统
【摘 要】
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本文介绍了深亚微米工艺用二次超纯水系统主要工艺流程及其各部分的作用.比较了一次纯水电阻率,二次纯水电阻率及二次纯水TOC含量的相互关系.讨论了半导体集成电路制造工艺对
【机 构】
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无锡微电子科研中心
【出 处】
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电子与封装
【发表日期】
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2002年2期
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