【摘 要】
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3.2 Wetting Layer Tailored by Epitaxial Stress Most epitaxial films wet the substrates to var-ying degrees in heteroepitaxy.In the paradigm systems of the QD ep
【机 构】
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中国科学院半导体研究所 半导体材料重点实验室,
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3.2 Wetting Layer Tailored by Epitaxial Stress Most epitaxial films wet the substrates to var-ying degrees in heteroepitaxy.In the paradigm systems of the QD epitaxial growth,In As/GaAs(001)and Ge/Si(001),the critical wetting layer(WL)for the
3.2 Wetting Layer Tailored by Epitaxial Stress Most epitaxial films wet the substrates to var-ying degrees in heteroepitaxy. In the paradigm systems of the QD epitaxial growth, In As / GaAs (001) and Ge / Si (001), the critical wetting layer (WL) for the
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