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采用丝网印刷工艺在氧化铝陶瓷基片上制备了六角钡铁氧体厚膜，研究了外加磁场对厚膜磁特性的影响，用扫描电镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）和振动样品磁强计（VSM）对样品进行表征。结果表明，垂直膜面磁场取向后，剩余磁化强度（Mr）大大增加。随着取向磁场的增高，矩形比（Mr／Ms）由未取向时的0．54提高到0．84。可以通过增加膜的致密度和消除不均匀性来进一步提高矩形比。该厚膜具有自偏置特性，在自偏置微波器件中具有应用潜力。