【摘 要】
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以ZrCl4-BCl3-H2-Ar为反应体系,采用化学气相沉积法在石墨基体表面制备ZrB2涂层.使用X射线衍射和扫描电镜（SEM）研究H2和B与Zr的摩尔比对ZrB2涂层物相和显微结构的影响.研究表明
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以ZrCl4-BCl3-H2-Ar为反应体系,采用化学气相沉积法在石墨基体表面制备ZrB2涂层.使用X射线衍射和扫描电镜（SEM）研究H2和B与Zr的摩尔比对ZrB2涂层物相和显微结构的影响.研究表明：在温度为1500℃,H2流量为400 mL/min,B：Zr为1.434时,制备得到柱状晶组织的ZrB2涂层.ZrB2涂层中晶粒的生长以〈110〉和〈100〉方向为主,并随反应气体BCl3或H2流量增加,〈110〉方向生长减弱,〈100〉方向生长增强.H2流量变化导致沉积过程中气体的滞留时间和反应物组分变化
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