【摘 要】
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采用双离子溅射的方法，在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型，利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线，采用改进的遗传单纯形混合算法，获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在400~700 nm波段的光学常数。结果表明，理论分析值与实验测量值取得了很好的一致性，拟合出的单层Ta2O5薄膜折射率误差小于0.001，膜层厚度误差不超过1 nm；双层Ta2O5/SiO2薄膜最大折射率误差小于0.004，最大厚度误差小于
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,四川成都610209中国科学院大学,北京100049
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采用双离子溅射的方法，在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型，利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线，采用改进的遗传单纯形混合算法，获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在400~700 nm波段的光学常数。结果表明，理论分析值与实验测量值取得了很好的一致性，拟合出的单层Ta2O5薄膜折射率误差小于0.001，膜层厚度误差不超过1 nm；双层Ta2O5/SiO2薄膜最大折射率误差小于0.004，最大厚度误差小于2.5 nm。此外，还对400 ℃高温环境下双层Ta2O5/SiO2薄膜的微观结构、应力、表面形貌及光学性能变化进行了研究。
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