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半导体生产中的薄膜沉积工艺通常对真空泵的要求很严格.在该工艺中高故障和停机现象较为普遍.iH真空泵是特别为应付恶劣的薄膜工艺环境所设计.阐述了iH系列在干泵在LPCVK氮化硅工艺应用中的成功表现.
适用于沉积工艺的真空技术
【摘 要】
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半导体生产中的薄膜沉积工艺通常对真空泵的要求很严格.在该工艺中高故障和停机现象较为普遍.iH真空泵是特别为应付恶劣的薄膜工艺环境所设计.阐述了iH系列在干泵在LPCVK氮化
【机 构】
：
BOCEdwards,BOCEdwards,BOCEdwards
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2004年4期
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