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通过溅射成膜，合理选择介质基片，膜层结构及溅射工艺参数，合理确定线宽工艺尺寸，严格湿法刻蚀的工艺参数，抵消了侧腐蚀的影响，利用电底加厚的边缘效应，制造出了导带宽度公差≤±０．０１ｍｍ，且满足电讯设计指标的高精度微带板。
高精度微带板制作工艺研究
【摘 要】
：
通过溅射成膜，合理选择介质基片，膜层结构及溅射工艺参数，合理确定线宽工艺尺寸，严格湿法刻蚀的工艺参数，抵消了侧腐蚀的影响，利用电底加厚的边缘效应，制造出了导带宽度公差≤±
【机 构】
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信息产业部电子第三十八研究所
【出 处】
：
电子工艺技术
【发表日期】
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2000年4期
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