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关于硫酸盐体系中镀铜的沉积机理少见报道，采用循环伏安法和计时电流法研究了铟在硫酸盐体系中电沉积的循环伏安特性与电结晶机理。通过分析恒电位暂态曲线，求出铟离子的扩散系数D和不同电压下的晶核密度N0。结果表明：铟的电沉积没有经历欠电位沉积过程，而是经历了晶核形成过程，其电沉积反应是一个不可逆过程；在外加电位范围内铜的电结晶按照瞬时成核方式和三维生长方式进行。