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采用直流磁控溅射方法，以Ar／N2为放电气体（N2／（Ar＋N2）=10％），在玻璃和NaCl（100）单晶片上分别沉积获得Fe-N薄膜样品．利用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）和超导量子干涉仪（SQUID）对样品的结构、形貌和磁性能进行分析，研究基片和基片温度等条件对薄膜的影响．结果表明，以NaCl单晶为基片获得单相γ′-Fe4N薄膜，与玻璃基片相比可降低其生成的基片温度并可扩大形成温度的范围，且比饱和磁化强度略有增大．