Fe/Si3N4复合多层膜的制备及其电磁性能

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多层膜结构隐身材料因其特有的结构具有非常好的吸波性能,在隐身领域有很大的应用前景.用磁控溅射方法制备了Fe/Si3N4复合多层膜,利用SEM分析了其微观形貌,测试了其电磁参数,然后与传统吸波材料羰基铁粉比较了低频下的电磁参数.结果表明,Fe/Si3N4复合多层膜的低频吸波性能优越.
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