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染料旋涂是CD -R复制中的核心工艺,旋涂的结果影响最终的盘片质量.光密度曲线代表了旋涂结果.利用光密度曲线模型分析旋涂工艺中的许多重要参数,从而控制盘片质量.利用专用仪器测试出旋涂后盘片的光密度曲线,并对曲线进行分段性拟合.新曲线具有4个特征点和3个特征线段,利用这些特征进行工艺分析.
利用光密度曲线模型研究CD—R染料旋涂工艺
【摘 要】
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染料旋涂是CD -R复制中的核心工艺,旋涂的结果影响最终的盘片质量.光密度曲线代表了旋涂结果.利用光密度曲线模型分析旋涂工艺中的许多重要参数,从而控制盘片质量.利用专用仪
【机 构】
：
清华大学
【出 处】
：
信息记录材料
【发表日期】
：
2003年1期
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