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介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况.大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一.
脉冲激光气相沉积技术现状与进展
【摘 要】
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介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况.大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的
【机 构】
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四川大学原子与分子物理研究所,中国科学院物理研究所,四川大学原子与分子物理研究所,中国工程物理研究院激光聚变研究中心
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2003年12期
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