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氮化硅-氮化钛陶瓷的氧化行为是建立在对其微观结构的观察,对这种氧化模型现象进行了描述,并对其氧化动力学模型进行研究。当温度<1000℃,只有TiN相被氧化。此氧化过程是由氧气通过TiO2扩散来控制的,由氧化动力学抛物线方程来描述。超过1000℃的过程是非常复杂的,那是因为同时发生Si3 N4和TiN相的两种氧化反应。三种氧化模型都被清晰的扩散机理所控制,是接连发生的。第1步,Si3 N4和TiN相被独立的氧化,它们分别被氧化为SiO2和TiO2相。 Si3 N4的氧化是由氧通过SiO2扩散控制的,而TiN的氧化由钛通过TiO2扩散所控制。第2步,TiN的氧化被氧通过TiO2扩散控制,而通过SiO2被氧化形成Si3 N4。第3步,TiN和Si3 N4的氧化由氧通过二氧化硅层扩散控制。动力学方程可以由这三种氧化模型的任意一种决定。