氮化硅-氮化钛陶瓷的氧化行为是建立在对其微观结构的观察，对这种氧化模型现象进行了描述，并对其氧化动力学模型进行研究。当温度＜1000℃，只有TiN相被氧化。此氧化过程是由氧气通过TiO2扩散来控制的，由氧化动力学抛物线方程来描述。超过1000℃的过程是非常复杂的，那是因为同时发生Si3 N4和TiN相的两种氧化反应。三种氧化模型都被清晰的扩散机理所控制，是接连发生的。第1步，Si3 N4和TiN相被独立的氧化，它们分别被氧化为SiO2和TiO2相。 Si3 N4的氧化是由氧通过SiO2扩散控制的，而TiN的氧化由钛通过TiO2扩散所控制。第2步，TiN的氧化被氧通过TiO2扩散控制，而通过SiO2被氧化形成Si3 N4。第3步，TiN和Si3 N4的氧化由氧通过二氧化硅层扩散控制。动力学方程可以由这三种氧化模型的任意一种决定。