GP34、GP35硅PNP外延型硅平面高反压晶体管工艺总结

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前言 我们试制、生产的GP34、GP35PNP型高反压晶体管,生产工艺是在原GK30、GK50工艺的基础上摸索的。 现将我们生产实践中所采用的工艺及在工作中所碰到的问题总结如下。 Preface We trial production, production GP34, GP35PNP high backpressure transistor, the production process is based on the original GK30, GK50 process groping. Now we have used in the production of technology and work encountered in the process of the problems are summarized below.
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