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溅射工艺是制作微机电系统(MEMS)器件金属薄膜的主要方式,金属薄膜作为MEMS器件中的掩模层和功能层,要求薄膜应力小,粘附性、均匀性和可焊性好。通过对常用金属薄膜材料特性、多层金属薄膜溅射工艺和质量评价方法的研究得出了优化工艺的的方法,提高了多层金属薄膜的质量。
MEMS器件中多层金属薄膜溅射工艺研究
【摘 要】
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溅射工艺是制作微机电系统(MEMS)器件金属薄膜的主要方式,金属薄膜作为MEMS器件中的掩模层和功能层,要求薄膜应力小,粘附性、均匀性和可焊性好。通过对常用金属薄膜材料特性
【机 构】
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国防科技大学机电工程与自动化学院,北京大学信息科学技术学院
【出 处】
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传感器与微系统
【发表日期】
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2018年01期
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