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期刊论文
同步辐射光刻技术进展
同步辐射光刻技术进展
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq2285387
【摘 要】
:
光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种,具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点,本文报告了国内利用同步
【作 者】
:
陈大鹏
彭良强
等
【机 构】
:
中国科学院微电子中心,中国科学院高能物理研究所
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
2002年10期
【关键词】
:
同步辐射
光刻技术
研究进展
X射线光刻
掩模
集成电路
制造
Lithography
X-ray lithography
NGL
Mask
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光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种,具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点,本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展。
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