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综合介绍了多弧离子镀TiAlN涂层熔滴颗粒产生的原因,探讨了N2分压和脉冲偏压对熔滴形成的影响.结果表明,TiAlN涂层中的熔滴颗粒密度和直径随N2分压和脉冲偏压峰值的提高而减小.
多弧离子镀TiAlN涂层熔滴工艺参数的影响
【摘 要】
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综合介绍了多弧离子镀TiAlN涂层熔滴颗粒产生的原因,探讨了N2分压和脉冲偏压对熔滴形成的影响.结果表明,TiAlN涂层中的熔滴颗粒密度和直径随N2分压和脉冲偏压峰值的提高而减
【机 构】
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西安建筑科技大学,深圳大学,深圳市广大纳米工程技术有限公司
【出 处】
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内蒙古民族大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2007年5期
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