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GaAspHEMT外延层转移技术研究
GaAspHEMT外延层转移技术研究
来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:guihuxinxi
【摘 要】
:
随着化合物半导体技术日益成熟,利用晶体管级异构集成技术在同一芯片内实现SiCMOS与化合物半导体的集成以获得最佳的电路/系统性能,既是技术发展的内在需求也是后摩尔时代的必然
【作 者】
:
赵岩
吴立枢
石归雄
程伟
栗锐
陈堂胜
陈辰
【机 构】
:
微波毫米波单片集成和模块电路重点实验室
【出 处】
:
固体电子学研究与进展
【发表日期】
:
2014年4期
【关键词】
:
半导体技术
外延层转移
化合物半导体
集成技术
晶体管
芯片
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随着化合物半导体技术日益成熟,利用晶体管级异构集成技术在同一芯片内实现SiCMOS与化合物半导体的集成以获得最佳的电路/系统性能,既是技术发展的内在需求也是后摩尔时代的必然趋势。
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