光学零件抛光的线性去除

来源 :北京理工大学学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：langcy

【摘要】

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由于采用了一些与实际加工情况很接近的假设,非常复杂的光学零件的抛光加工过程可以被简化成仅仅与速度、压力以及作用时间有关的线性和不随位置而变化的系统.抛光中,材料的

【作者】

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辛企明

【机构】

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北京理工大学工程光学系北京100081

【出处】

：

北京理工大学学报：英文版

【发表日期】

：

1992年2期

【关键词】

：

光学零件抛光卷积/线性与位置不变系统 optical element polishing convolution/linear and shift in

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由于采用了一些与实际加工情况很接近的假设,非常复杂的光学零件的抛光加工过程可以被简化成仅仅与速度、压力以及作用时间有关的线性和不随位置而变化的系统.抛光中,材料的去除量可以用抛光头的去除函数与驻留函数的卷积求出.论述了去除函数的特性.用环形抛光模抛光光学表面的实验结果证明作者提出的假设和方法是正确而可行的.

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