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利用溶胶-凝胶法于硅基片表面制备SiO 2及Eu^n＋ ∶SiO 2单层及多层薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）、傅里叶红外光谱仪（FT-IR）、接触角测量仪、动态力学分析仪（DMA）以及扫描电镜（SEM）等对样品的性能进行系统的测试和分析。研究结果表明，经多层镀膜后基片表面膜层厚度增加，且薄膜与基片之间没有明显的间隙，结合紧密。多层镀膜，尤其是镀膜超过6层后，可以显著提高基片的抗弯强度。Eu^n＋ ∶SiO 2薄膜对抗弯强度的提高量大于单层SiO 2薄膜。SiO 2薄膜对硅基片亲水性影响不明显，但稀土掺杂