硅单晶片镜面吸附物吸附状态的研究

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【摘要】

：

提出了新抛光硅片镜面吸附物吸附动力学过程和优先吸附数学模型及吸附物吸附状态控制机理。 The adsorption kinetics, preferential adsorption mathematical model and ad

【作者】

：

刘玉岭刘钠曹阳

【机构】

：

河北工业大学!天津300130,北京石化工程公司!北京100101,北京汽车总公司!北京100020

【出处】

：

稀有金属

【发表日期】

：

1999年02期

【关键词】

：

硅片吸附模型动力学

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提出了新抛光硅片镜面吸附物吸附动力学过程和优先吸附数学模型及吸附物吸附状态控制机理。 The adsorption kinetics, preferential adsorption mathematical model and adsorption state control mechanism of the new polished silicon mirror adsorbate were proposed.

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