等离子化学气相沉积(PCVD)TiN涂层的组织与性能研究

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用透射电镜和X光衍射仪揭示了用PCVD法涂层TiN的物相及超细晶粒、位错、孪晶、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。 The microstructure of TiN coated with PCVD and the microstructure of ultrafine grains, dislocations, twins and preferred orientation were revealed by transmission electron microscopy and X-ray diffractometer. The properties of the coating were compared.
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