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本文对磁控溅射不同结构的Ｇｅ／Ｓｉ多层膜样品进行了Ｘ射线衍射的测试和分析，并进一步采用有过渡层的光学多层膜衍射模型对衍射谱进行了拟合；获得了扩散层厚度和分层厚度等多层膜的结构参数，定性讨论了多层膜中互扩散与分层厚度铁关系。计算结果与实验结果符合较好。
磁控溅射Ge／Si多层膜X射线低角衍射界面结构分析
【摘 要】
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本文对磁控溅射不同结构的Ｇｅ／Ｓｉ多层膜样品进行了Ｘ射线衍射的测试和分析，并进一步采用有过渡层的光学多层膜衍射模型对衍射谱进行了拟合；获得了扩散层厚度和分层厚度等多层膜的结构参
【出 处】
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光电子．激光
【发表日期】
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2000年1期
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