【摘 要】
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本文通过对蓝色铬膜层的XPS分析及电化学方法研究了该膜层的沉积过程。结果表明,整个膜层可分为:120nm厚的交界层(主要成分是Cr和基底Ni),250nm厚的中间层(Cr_2O_3,Ct和CtSe,
【机 构】
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厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系 厦门 361005rrrrrrrrn,厦门 361005rrrrrrrrn,厦门 361005
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本文通过对蓝色铬膜层的XPS分析及电化学方法研究了该膜层的沉积过程。结果表明,整个膜层可分为:120nm厚的交界层(主要成分是Cr和基底Ni),250nm厚的中间层(Cr_2O_3,Ct和CtSe,后者决定了膜层呈蓝色),以及100nm厚的表面层(吸附的Cr(Ⅵ)、Cr(Ⅲ),SeO_4~(2-)和Se),对电沉积历程和机理进行了探讨。
In this paper, the deposition process of the film is studied by XPS analysis and electrochemical method. The results show that the whole film can be divided into 120nm thick interface layer (the main component is Cr and the base Ni), 250nm thick interlayer (Cr_2O_3, Ct and CtSe, the latter determines the film blue), and 100nm Thick surface layer (adsorption of Cr (Ⅵ), Cr (Ⅲ), SeO_4 ~ (2-) and Se), electrodeposition process and mechanism were discussed.
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