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报告了经电子辐照后的高阻（45～70Ω·cm）NTD-FZ-Si-p∧+nn∧+结构的N-Si中缺陷态在氮气保护下的等时、等温退火特性，而且获得了主要缺陷态能级E3、E4的激活能和频率因子。
电子辐照高阻区熔N型NTD硅中缺陷态的退火特性
【摘 要】
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报告了经电子辐照后的高阻（45～70Ω·cm）NTD-FZ-Si-p∧+nn∧+结构的N-Si中缺陷态在氮气保护下的等时、等温退火特性，而且获得了主要缺陷态能级E3、E4的激活能和频率因子。
【机 构】
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郑州大学,河南农业大学
【出 处】
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电力电子技术
【发表日期】
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2001年1期
【基金项目】
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南省教委自然科学基金
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