生长温度对分子束外延A1N薄膜的影响

来源 :重庆理工大学学报:自然科学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tongjingjj
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研究了不同生长温度对分子束外延设备在蓝宝石衬底上外延A1N薄膜时对薄膜样品晶体质量和表面形貌的影响。研究发现:随着生长温度的提高,RHEED条纹更加纤细、更加细锐;在低温下,A1N表面有密集的小岛状晶粒结构,但随着温度的升高,小岛之间开始聚合,并形成大范围的原子力台阶,表明A1N薄膜在高温下有良好的二维生长模式;(002)和(102)面XRD半高宽结果进一步表明A1N薄膜的二维生长模式,且在高温下,A1N薄膜中的刃型位错密度大大减小。说明提高生长温度有助于提高A1N薄膜的晶体质量,获得平坦的表面。
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