【摘 要】
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采用反应磁控溅射在AZ31合金上制备了 TiN/TiCN薄膜,并对沉积后的薄膜进行真空去应力退火.分别采用X射线荧光光谱仪(XRF)、扫描电镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和电化学工
【机 构】
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内蒙古机电职业技术学院冶金与材料工程系,内蒙古呼和浩特 010070;内蒙古工业大学材料科学与工程学院,内蒙古呼和浩特 010050
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采用反应磁控溅射在AZ31合金上制备了 TiN/TiCN薄膜,并对沉积后的薄膜进行真空去应力退火.分别采用X射线荧光光谱仪(XRF)、扫描电镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和电化学工作站对退火前后的薄膜进行表面化学成分、形貌结构、残余应力以及耐蚀性能分析.结果表明:薄膜由FCC结构的TiCN和TiN组成.退火后,薄膜的晶粒尺寸和结晶度增大,内部残余应力显著下降,电化学腐蚀区域的Ti、C、N元素含量下降,250℃退火薄膜的耐蚀性能与沉积态薄膜相当,300℃退火后薄膜的耐蚀性能下降.
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