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本文就免清洗技术中几个概念性问题：“免清洗与不清洗”、“固含量与不挥发物含量”、“离子污染度与美国军标MIL－P－28809A”提出了看法。
对免清洗技术中几个概念性问题的看法
【摘 要】
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本文就免清洗技术中几个概念性问题：“免清洗与不清洗”、“固含量与不挥发物含量”、“离子污染度与美国军标MIL－P－28809A”提出了看法。
【机 构】
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化工部晨光华研究院,成都有机硅研究中心
【出 处】
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印制电路与贴装
【发表日期】
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2001年4期
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