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主要技术内容:掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,简称ITO)材料是一种n型半导体材料,该类材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜,主要应用于平板显示器(如LCD)、防辐射玻璃、太阳能电池板等领域。日本、美国和德国于上世纪70年代研制ITO靶材,目前已形成规模产业,主要采用冷压一烧结工艺成形和致密化,同时兼顾热压和热等静压工艺,