论文部分内容阅读
以硅溶胶为硅源,水热法制备NiO/SiO2催化剂,用于化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD法)制备碳纳米管通过SEM表征,研究了催化剂原料及其配比,水热制备工艺条件对催化效果的影响.结果表明:用硅溶胶可替代正硅酸乙酯作为硅源;制备的最佳条件为:MSiO2:MNi(NO3)2=1:12～1:14,水热温度为180～200℃,压力为1.2～1.5 MPa,保温时间为0.5～2 h.