【摘 要】
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在垄三栽培（70cm垄三行栽培,每公顷保苗30万株）和窄行密植栽培（45cm窄行密植栽培,每公顷保苗45万株）中,利用植物光谱仪测定受害叶片的光谱反射率变化。结果表明,大豆蚜虫危害程度
【机 构】
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黑龙江省农业科学院佳木斯分院,东北农业大学农学院
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在垄三栽培（70cm垄三行栽培,每公顷保苗30万株）和窄行密植栽培（45cm窄行密植栽培,每公顷保苗45万株）中,利用植物光谱仪测定受害叶片的光谱反射率变化。结果表明,大豆蚜虫危害程度可以在大豆叶片的光谱中得到响应,且近红外区比可见光区更明显。大豆植株受蚜虫危害后,其株高、SPAD（单株叶绿素相对含量）、叶面积和地上部干重均有所下降。不同时期两种栽培模式下受大豆蚜虫危害的植株与正常植株相比,其株高和叶面积差异都达到了显著水平。SPAD值表现略有不同,垄三栽培模式下,受虫害植株与正常植株间差异显著;密植栽培
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