【摘 要】
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采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢以及单晶硅基体上制备了CrNx薄膜,并利用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电镜（FESEM）、能量色散X射线能谱仪（EDS）和纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,中国科学院研究生院
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采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢以及单晶硅基体上制备了CrNx薄膜,并利用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电镜（FESEM）、能量色散X射线能谱仪（EDS）和纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了表征。结果表明,随着溅射电流的增大,薄膜中N/Cr比值减小,相组成由CrN（200）向Cr2N（111）转变;晶粒尺寸减小,柱状结构消失,结构变得致密;由于在大溅射电流下,易于形成Cr2N高硬度相,而且形成的薄膜晶粒细小、结构致密,所以硬度值随溅射电流单调升高,在21A时达到最高,为21GPa。
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