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针对制版工艺中典型质量问题事例，分析了影响光刻掩模版的质量因素，提出了有效的解决方案，对保证掩模版质量、提高掩模版的制作水平具有指导意义。
掩模版制作工艺中典型问题探析
【摘 要】
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针对制版工艺中典型质量问题事例，分析了影响光刻掩模版的质量因素，提出了有效的解决方案，对保证掩模版质量、提高掩模版的制作水平具有指导意义。
【机 构】
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南京电子器件研究所
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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2009年4期
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